• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:

    公开号:WO1988002554A1
    申请号:PCT/DE1987/000397
    申请日:1987-09-02
    公开日:1988-04-07
    发明作者:Gerhard Conzelmann；Heinz Pfizenmaier
    申请人:Robert Bosch Gmbh；
    IPC主号:H01L29-00
    专利说明:
    [0001] Hochfrequenz-Leistungs-Transistor in Bipolar-Epitaxial-Technik
    [0002] Stand der Technik
    [0003] Die Erfindung betrifft einen Hochfrequenz-Leistungs- Transistor in Bipolar-Epitaxial-Technik gemäß Oberbegriff des Hauptanspruchs.
    [0004] Hochfrequenz-Transistoren für Leistungs-Endstufen in Hochfrequenz-Verstärkern sind meist in Epitaxial-Technik hergestellt. Gegen die üblicherweise an Masse liegenden Kühlkörper werden sie wegen der guten Wärmeleitfähigkeit bei bekannten Ausführungen mit dünnen Berylliumoxid-Plättchen isoliert. Diese Isolationstechnik ist jedoch nicht nur teuer, sondern auch kritisch in der Handhabung, da Berylliumoxid giftig ist.
    [0005] Weiterhin ist es bekannt, Transistoren in monolithisch integrierter Technik auszuführen, wobei die einzelnen Komponenten einer derartigen Halbleiteranordnung gegeneinander und gegen das Substrat mittels Sperrschichten eventuell auch dielektrischen Schichten aus SiO isoliert sind. Mit zunehmender Betriebsfrequenz steigen jedoch die Verluste der Sperrschichtisolierung, da die sich bildenden Sperrschichtkapazitäten mit ohmschen Bahnwiderständen behaftet sind. Aus diesem Grunde sind die bisher bekannten monolitisch integrierten Transistoren als HochfrequenzLeistungs-Transistoren praktisch ungeeignet.
    [0006] Vorteile der Erfindung
    [0007] Ein Hochfrequenz-Leistungs-Tansistor mit den Merkmalen des Hauptanspruchs hat demgegenüber den Vorteil, daß im Rahmen des Wafer-Herstellungsprozesses eine isolierende Zwischenschicht aufgebracht wird, die aus einer Sperrschicht, bevorzugt jedoch aus einem Dielektrikum wie Oxiden oder Nitriden bestehen kann und somit kostengünstig und in der Verwendung unproblematisch ist. Auf diese Schicht kann ein legierungsoder lötfähiger Belag aufgebracht werden, der eine Verbindung mit einem Kühlkörper ermöglicht. Dies ist dadurch möglich, daß Emitter-, Basis- und Kollektorelektroden auf der anderen Hauptebene des Silizium-Plättchens liegen, wobei das Basisgebiet und die Emitteranschlußstreifen zwischen Kollektoranschlußstreifen angeordnet sind. Durch diese Maßnahmen ist eine einfache, kostengünstige Herstellung eines HF-Leistungstransistors möglich, wobei die Oxid- bzw. Nitridschichten auf dem Silizium im Plasmaverfahren während des Wafer-Herstellungsprozesses als Zwischenschicht abgeschieden werden können. Auf die Zwischenschicht kann zusätzlich eine Poly-Silizium-Schicht als legierungsfähiger Belag aufgebracht werden. Als lötfähiger Belag kann eine Aluminium-Nickelschicht dienen, wobei als Oberflächenschutz zusätzlich eine Goldschicht aufgebracht sein kann.
    [0008] Der mit dem Transistor verbundene Kühlkörper kann wenigstens hochfrequenzmäßig bevorzugt jedoch auch gleichstrommäßig auf Masse liegen.
    [0009] Um unerwünschte Rückwirkungskapazitäten zu vermindern, ist es vorteilhaft, eine hochdotierte Schirmelektrode in das Silizium unter den Basisverbindungsleitungen bzw. unter dem Basisanschlußfleck einzubringen, die wenigstens hochfrequenzmäßig am Massepotenial liegt.
    [0010] Um am Umfang des Halbleiter-Plättchens definierte Verhältnisse auf Dauer zu schaffen, ist es weiterhin vorteilhaft, wenigstens an den Stellen ohne Masseverbindung eine isolierende Diffusionszone gleicher Dotierung wie das Substrat vorzusehen. Die entsprechend ausgebildeten Bereiche werden dadurch passiviert.
    [0011] Zur Stabilisierung der Stromverteilung können Widerstände in den Zuleitungen zu den einzelnen Emitterfingern diffundiert sein, wobei diese Widerstände durch hochdotierten n-Zonen gebildet sein können.
    [0012] Zeichnung
    [0013] Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
    [0014] Figur 1 das Ersatzschaltbild eines bipolaren, monolithisch integrierten Hochfrequenz-Transistors,
    [0015] Figur 2 ein monolithisch integrierter Hochfrequenz- Transistor mit zusätzlicher Substratdiode,
    [0016] Figur 3 die Ersatzschaltung eines monolithisch integrierten Hochfrequenz-Transistors mit Schirmelektrode und entsprechender Oxidkapazität, Figur 4 die Draufsicht auf eine monolithisch integrierte Schaltung eines Hochfrequenz-Transistors,
    [0017] Figur 5 den Schnitt AB der in Figur 4 dargestellten Anordnung und
    [0018] Figur 6 einen Schnitt AB der in Figur 4 dargestellten Anordnung, jedoch mit eindiffundiertem tiefen Kollektor anstelle der Isolierungsdiffusion als Schirmelektrode.
    [0019] Figur 1 zeigt eine Ersatzschaltung eines HochfrequenzTransistors 1 mit Emitteranschluß 2, Basisanschluß 3 und Kollektoranschluß 4. In den Anschlußleitungen sind die Bahnwiderstände 5, 6 und 7 angegeben. Der Emitterbahnwiderstand 5 ist meistens durch zusätzliche Stabilisierungswiderstände vergrößert, die jedem Teilemitter zugeordnet sind. Im vorliegendem Ersatzschaltbild wurde jedoch auf die Darstellung derartiger weiterer Komponenten ebenso wie auf die Darstellung von Induktivitäten und parasitärer Kapazitäten verzichtet.
    [0020] Wird der Hochfrequenz-Transistor 1 in monolithisch integrierter Technik ausgeführt, so erscheint zusätzlich die Sperrschichtkapazität 9 der Substratdiode 10 mit ihrem Verluste erzeugendem Reihenwiderstand 8.
    [0021] Die Sperrschichtkapazität 9 der Substratdiode 10 und die Verluste im Reihenwiderstand 8 lassen sich nun durch eine von den üblichen Strukturen monolithisch integrierter Schaltungen abweichende Struktur verringern. Das Prinzip hierzu ist in Figur 2 dargestellt. Es wird zusätzlich eine Diode erzeugt, die der ursprünglich vorhandenen Substratdiode mit entgegengesetzter Polung in Reihe geschaltet ist. Dadurch entsteht die Ersatzschaltung nach Figur 2, wobei aus der ursprünglichen Substratdiode 10 die neue Substratdiode 101 mit ihrer Sperrschichtkapazität 91 und ihrem Reihenverlustwiderstand 81 geworden ist. Durch diese Änderung sind Reihenwiderstand 81 und Kapazität 91 der Substratdiode 101 näherungsweise gleich groß geblieben wie bei der ursprünglichen Substratdiode 10. Die in Reihe dazu liegende weitere Diode 102 besitzt die Sperrschichtkapazität 92 und den Reihenwiderstand 82. Sie setzt sich aus unterschiedlichen Teildioden zusammen. Es gilt ihre Kapazität 92 klein zu halten, gegen die Substratkapazität 91. Je kleiner die Kapazität 92 ist, desto geringer werden die Verluste im Substrat, desto mehr entspricht jedoch auch das Substratpotential hochfrequenzmäßig dem Kollektorpotential. Erzeugt wird die Diode 102 dadurch, daß die von der oberen Hauptebene ausgehenden sich in das Silizium erstreckenden hochdotierten und auf Massepotential liegenden p-Zonen 14 (Figur 5) durch ndotierte Zonen 13, 15, 17 ersetzt werden (Figur 6).
    [0022] Liegt über der Epitaxie eine durch Oxid isolierte, an Masse angeschlossene Schirmelektrode, so gilt das in Figur 3 dargestellte Ersatzschaltbild. Der Reihenschaltung der Substratdiode 101 und der Diode 102 liegt noch die OxidKapazität 103 in Reihe, deren Verlustwiderstand gegenüber den Widerständen 81, 82 zu vernachlässigen ist. Analog gilt dasselbe für die untere Hauptfläche zwischen Substrat und Kühlkörper.
    [0023] Im Frequenzbereich von etwa 500 MHz bis 1000 MHz wirken die verschiedenen Ausführungsformen hauptsächlich durch die Reihenschaltung der zusätzlichen Kapazitäten 92 bzw. 92 und 103.
    [0024] Figur 4 zeigt die Draufsicht auf den Ausschnitt eines Hochfrequenztransistors, wobei die Figuren 5 und 6 zugehörige Schnitte entlang der Schnittlinie AB zeigen. Wie bereits ausgeführt, sind mit den Bezugszahlen 2, 3, 4 die Anschlüsse von Emitter, Basis und Kollektor gekennzeichnet. In den Zuleitungen zu den Teilemittern sind Widerstände 5 als Stabilisierungswiderstände eingebracht, wobei Verbindungsleitungen 21 von den Widerständen 5 zu den Emittern verlaufen. Außerdem ist am Rand eine metallische Abschirmung 20 vorgesehen.
    [0025] In der Schnittdarstellung (Figur 5, Figur 6) ist das pdotierte Substrat 11, der Buried-Layer 12, die darauf abgeschiedene n-dotierte Epitaxie 13, die eindiffundierte Isolierung 14, der eindiffundierte tiefe Kollektor 15, die Basiszone 16 und die Emitterzone 17 ersichtlich.
    [0026] Die an der oberen Hauptebene austretenden pn-übergänge sind mit der in dieser Darstellung mit einheitlicher Dicke gezeichneten Oxidschicht 18 abgedeckt. Auf dieser Oxidschicht sind die metallischen Anschlüsse bzw. Verbindungen wie Emitteranschluß 2, Verbindungsleitungen 21, Basisansσhluß 3 und Abschirmung 20 angeordnet. Kontakte zu den darunterliegenden Diffusionszonen bestehen in den Oxidfenstern. Auf der unteren Hauptebene des Substrates 11 befindet sich eine Metallisierung 22 auf einer isolierenden Schicht 19, die als dielektrische Schicht bzw. Sperrschicht ausgebildet sein kann.
    [0027] Die Substratdiode 10 von Figur 1 wird gebildet von der Grenzfläche des Kollektorraums 12, 13 gegen das Substrat 11. Die kapazitive Rückwirkung des Kollektors auf den Basisanschluß 3 wird durch die freiliegende niederohmige Diffusion 14, die über die Anschllußleitung 20 mit Masse verbunden ist, drastisch reduziert. Die Emitter-Widerstände 5 können mit der Emitterdiffusion 17, dem tiefen Kollektor 15 und eventuell auch noch parallelgeschaltet dem Buried-Layer 12 erzeugt werden.
    [0028] Figur 6 zeigt eine weitere Ausgestaltung der in Figur 5 dargestellten Anordnung. Die mit den an Masse liegenden Anschlüssen 2, Abschirmung 20 verbundenen großflächigen Gebiete 14 von Figur 5, die eine Isolierungsdiffusion bilden, sind bei der Ausführung gemäß Figur 6 aufgelöst und durch die entgegengesetzt dotierte Epitaxie 13 und den tiefen Kollektor 15 mit teilweise darüberliegendem Emitter 17 ersetzt. Aus der Substratdiode 10 wurde die im wesentlichen gleichartige Substratdiode 101. Zwischen den metallischen Bereichen 2, 20 und dem Substrat 11 befinden sich jetzt n-dotierte Gebjete, wodurch die weitere Diode 102 entsteht. Diese ist der Substratdiode 101 mit entgegengesetzter Polung in Reihe geschaltet, so daß der kapazitive Verschiebestrom kleiner wird und damit auch die Verluste in den ohmschen Bahngebieten. Ebenso wirksam ist eine zwischen der mit Metall bzw. mit einem Kühlkörper verbundenen Metallisierung 22 und dem Substrat 11 sich bildende Sperrschicht. Diese kann auf der unteren Hauptebene des Substrats 11 als dielektrische Schicht 19 aufgebracht sein.
    权利要求:
    ClaimsPatentansprüche
    1. Hochfrequens-Leistungs-Transistor in BipolarEpitaxialtechnik, in dessen Basisgebiet mehrere Emitter mit Emitter- und Basisanschlußstreifen angeordnet sind, wobei die Emitter- und Basisanschlüsse an einer Hauptebene des Siliziums-Plättchens liegen, dadurch gekennzeichnet, daß die Kollektoranschlüsse (4) in der die Emitteranschlüsse (2) und Basisanschlüsse (3) enthaltenden Hauptebene liegen; daß zwischen den Kollektoranschlüssen (4) die Verbindungsleitungen (21) zu den Emittern und Basisanschlüssen verlaufen; daß der Kollektoranschluß (4) über eine durch die Dicke der hochohmigen Epitaxie reichenden niederohmigen Anschlußzone gleicher Polarität mit der unterhalb der Epitaxie liegenden niederohmigen Kollektorzone (12) verbunden ist, die in einem entgegengesetzt dotierten hochohmigen Substrat (11) eingebettet ist; und daß die untere Hauptebene des SiliziumPlättchens gegen dieses Substrat (11) durch wenigstens eine im Zuge des Wafer-Herstellungsprozesses hergestellte isolie¬
    rende Zwischensicht (19) isoliert ist.
    2. Transistor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als isolierende Zwischenschicht (19) eine Sperrschicht dient.
    3. Transistor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als isolierende Zwischenschicht (19) eine Oxid- oder Nitridschicht dient.
    4. Transistor nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß Oxide oder Nitride des Siliziums im Plasmaverfahren abgeschieden sind.
    5. Transistor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht (19) von einer Sperrschicht und einer dielektrisch isolierenden Schicht gebildet ist.
    6. Transistor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß ein legierungs- oder lötfähiger Belag auf die Zwischenschicht (19) aufgebracht ist.
    7. Transistor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß Poly-Silizium als legierungsfähiger Belag dient.
    8. Transistor nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine Aluminium-Nickelschicht ggf. mit außen aufgebrachter Goldschicht als lötfähiger Belag dient.
    9. Transistor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Hochfrequenz-Leistungs- Transistor mit einem hochfrequenzmäßig auf Masse liegenden Kühlkörper verbunden ist.
    10. Transistor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß im Bereich der oberen Hauptebene hochfrequenzmäßig an Masse liegende, in das Substrat sich erstreckende Zonen entgegengesetzt wie das Substrat (11) dotiert sind.
    11. Transistor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine hochdotierte Schirmelektrode (13, 15) in das Silizium unter Basisverbindungsleitungen bzw. unter dem Basisanschlußfleck eingebracht ist, die wenigstens hochfrequenzmäßig am Massepotential liegt.
    12. Transistor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß am Umfang des Silizium-Plättchens wenigstens teilweise eine isolierende Diffusionszone (14) gleicher Dotierung wie das Substrat (11) diffundiert ist.
    13. Transistor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß diffundierte Widerstände (5) in den Zuleitungen zu den einzelnen Emitterfingern vorgesehen sind.
    14. Transistor nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die diffundierten Widerstände (5) durch eine oder mehrere hochdotierte n-Zonen gebildet sind.
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    法律状态:
    1988-04-07| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): JP US |
    1988-04-07| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): AT BE CH DE FR GB IT LU NL SE |
    1989-02-18| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1987905597 Country of ref document: EP |
    1989-07-26| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1987905597 Country of ref document: EP |
    1990-05-23| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1987905597 Country of ref document: EP |
    优先权:
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